| 是否进口：是 | 原产国/地区：芬兰 | 加工定制：是 |
| 品牌：Picosun | 电镀位置：ALD | 镀种：真空镀膜 |
Picosun R-200系列原子层沉积体统是一款多种能的原子层沉积平台，是用于研发的理想选择，适用于IC器件、MEMS器件、显示器、led、激光、3D对象，例如透镜、光学器件、珠宝、硬币、医疗植入物等数十种应用的研发。
PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现***的均匀性，包括zui具挑战性的通孔的、***深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更***的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度zui小的薄膜层。
主要技术参数：
衬底尺寸和类型 | 50 – 200 mm /单片 |
| 可沉积直径150 mm基片，竖直放置，10-25片/批次（根据工艺） | |
| 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 | |
| 3D 复杂表面衬底（使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳） | |
| 粉末与颗粒（配备扩散增强器） | |
| 多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品 | |
工艺温度 | 50 – 500 °C, 可选更高温度（真空腔体外壁不用任何冷却方式即可保持温度低于60 °C） |
基片传送选件 | 气动升降（手动装载） |
| 预真空室安装磁力操作机械手（Load lock） | |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源 |
| 4根独立源管线， 多加载6个前驱体源 | |
| 对蒸汽压低的前驱体(1mbar~10mbar)，用氮气等载气导入前驱体瓶内引出 | |
重量 | 350kg |
尺寸（ W x H x D)） | 取决于选件 |
| 小146 cm x 146 cm x 84 cm | |
| 189 cm x 206 cm x 111 cm | |
选件 | PICOFLOW?扩散增强器，集成椭偏仪，QCM，RGA，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集 成（用于惰性气体下装载）。 |
验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
